中国科研机构发明新型激光直写光刻机

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来源：盐城市某某文化传媒制造厂更新时间：2026-07-30 11:42:00 【打印此页】【关闭】

中新网杭州4月10日电(鲍梦妮)4月10日，中国直写浙江大学极端光学技术与仪器全国重点实验室在杭州举行成果发布会，科研宣布成功研发万通道3D纳米激光直写光刻机，机构激光机为超分辨光刻、发明光子芯片制造、新型高端掩模版加工等领域提供关键技术支撑。光刻